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微納加工測(cè)試平臺(tái)建有完善的動(dòng)力、凈化空調(diào)及氣體保障系統(tǒng)，使用總面積2000平方米的超凈實(shí)驗(yàn)室，配置了聚焦離子束直寫(xiě)系統(tǒng)、金剛刀車(chē)削機(jī)、濺射鍍膜機(jī)等用于微納加工、光刻工藝等各型儀器16臺(tái)套。該平臺(tái)搭建了涵蓋制備、加工、表征、測(cè)試環(huán)節(jié)的條件保障體系，具備清洗、光刻、擴(kuò)散、鍍膜、刻蝕、封裝和檢測(cè)等微納加工領(lǐng)域全流程技術(shù)支撐能力，可為科技創(chuàng)新提供納米、微米宏觀尺度任意結(jié)構(gòu)材料及器件的精確制作的全套加工及檢測(cè)方法等技術(shù)支撐服務(wù)。支撐的研究工作主要包括：（1）石墨烯納米器件、紫外到紅外全波段微納光學(xué)器件、微納電子器件、微納結(jié)構(gòu)特殊功能材料器件、拉曼傳感芯片、太赫茲元器件及生物微流控芯片等的制作加工。（2）通過(guò)獨(dú)特的技術(shù)，實(shí)現(xiàn)石英、硅、金屬、塑料等材料特征尺寸（低至5nm）的二維和三維結(jié)構(gòu)的超精密制備，同時(shí)可根據(jù)研究人員的需求，提供從掩模設(shè)計(jì)到完成最終成品的整套解決方案。（3）具有五軸加工能力，實(shí)現(xiàn)二維及三維任意結(jié)構(gòu)的超精密加工，表面平整度高達(dá)3nm，加工線性度誤差低于12.5nm/150mm，加工工件尺寸可達(dá)350×150×300mm；可加工科研人員獨(dú)特設(shè)計(jì)的各種納米量級(jí)精度、微米特征尺寸、宏觀尺寸的跨尺度器件，并且也可根據(jù)用戶的應(yīng)用需求和技術(shù)指標(biāo)，提供微納光學(xué)元件設(shè)計(jì)及制作的完整解決方案。